BX-G103系列是针对高-端研发和质量控制领域推出的极-致型多入射角激光椭偏仪。 BX-G03系列可在单入射角度或多入射角度下对样品进行准确测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；亦可用于实时测量纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的绝对厚度测量。

关键词：

激光测量仪   椭偏仪光源   椭偏仪   椭偏仪设备   激光测高仪精度

产品用途：激光椭偏仪

   BX-G103系列是针对高-端研发和质量控制领域推出的极-致型多入射角激光椭偏仪。 BX-G103系列可在单入射角度或多入射角度下对样品进行准确测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；亦可用于实时测量纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的绝对厚度测量。

仪器特点：

l 测量方法：Delta测量范围0-360o，无测量死角问题（即使在0o或180o附近时也具有极-高的准确度），也可消除粗糙表面引起的消偏振效应对结果的影响

l 原子层量级的极-高灵敏度和准确度：采样方法、高稳定的核心器件、高质量的制造工艺实现并保证了极-高的准确度和稳定性

l 百毫秒量级的快速测量：在保证极-高精度和准确度的同时，可在几百毫秒内快速完成一次测量，可满足快速多点检测和批量检测需求

l 精准方便的样品对准：视频式自准直样品方位精密对准系统，精度高、操作方便

l 简单方便的仪器操作：一键操作即可完成复杂的样品测量和分析；按照质控要求进行数据多种导出；丰富的模型库和材料库方便用户的高级操作；管理员/操作员不同的模式，保证仪器安全

技术参数：